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Croissance et caractérisation de films ultra-minces d’oxydes de silicium formes sous bombardement électronique en surface du silicium(100).
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Croissance et caractérisation de films ultra-minces d’oxydes de silicium formes sous bombardement électronique en surface du silicium(100).
Benafghoul, SEFSAF
URI:
http://hdl.handle.net/123456789/340
Date:
1989
Abstract:
Memoire de doctorat en Physique / Option : Physique du solide .
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Name:
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Size:
39bytes
Format:
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Doctorat en Physique
Université Hassiba Benbouali de Chlef / Faculté des sciences
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